联系我们
网站地图
切换导航
首页
走进亦盛
产品应用
企业文化
合作企业
加入我们
当前位置:
首页
>
亦盛产品
>
半导体材料
> 干法刻蚀后清洗液
干法刻蚀后清洗液
产品编号:004
产品规格:1加仑/罐
产品简介:干法刻蚀清洗液
产品详情
干法刻蚀清洗液是一款专为半导体芯片制造图形化工艺后处理设计的高性能清洗剂。该产品适用于集成电路(IC)、功率器件、硅基OLED等领域的干法刻蚀后清洗工序,能够有效去除晶圆表面残留的光刻胶、刻蚀过程中侧壁产生的聚合物(Polymer)及副产物残留。
亦盛产品
半导体材料
3C玻璃全制程解决方案
3C金属精密制程解决方案